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拋光氧化釔氧化鋯氧化鋯陶瓷研磨介質球珠

氧化鋯珠不僅可用於研磨和分散物料漿料和粉末,還可以作為振動拋光機中的拋光磨料,主要用於鏡面拋光,以使工件獲得明亮光亮的表面。

    氧化鋯珠 不僅可用於研磨和分散物料漿料和粉末,還可以作為振動拋光機中的拋光磨料,主要用於鏡面拋光,使工件獲得光亮光澤的表面。

    鏡面拋光對磨料的表面光潔度要求很高:磨料表面必須光滑,不能有研磨力,以免刮傷工件。

    常用的鏡面拋光磨料包括高頻陶瓷圓筒、氧化鋯磨珠、鋼珠和圓盤珠。

    氧化鋯珠 它們呈珍珠白色,表面光滑。在陶瓷球中,它們是高強度磨料,莫氏硬度為9,強度超過1200兆帕。它們具有抗碎裂性、使用壽命長和經久耐用等優點。

    氧化鋯珠可用於拋光金銀首飾。將其與相應的拋光液和水一起放入拋光桶中,即可將首飾拋光至高光澤度,無需手工打磨,省時省力。

    對於玉器精密拋光設備而言,成品玉器表面最初較為暗淡。透過在振動拋光機中加入氧化鋯珠和光亮液,即可達到鏡面般的光澤效果。

    氧化鋯珠 也適用於鋁合金輪圈和不鏽鋼製品的鏡面拋光。

    氧化鋯珠規格的選擇取決於工件的尺寸。對於有孔或槽的工件,珠子的直徑應比孔/槽的直徑小1/3。

    氧化鋯珠的比重高達3.6,相對較重。用於設備時,需要較高的振動頻率,因此需要添加較多的氧化鋯珠。

    與氧化鋯珠相比,高頻陶瓷磨料比重較低,易碎,耐磨性較差。對於需要快速獲得高品質鏡面光潔度且要求嚴格的工件,建議使用氧化鋯珠。

    產品規格表

    規格項目

    技術參數

    測試方法

    主要部件

    ZrO2 ≥ 95%,Y2O3 = 3-5%(穩定劑)

    X射線螢光(XRF)

    密度

    6.0-6.1 克/立方厘米

    阿基米德原理

    粒徑範圍

    0.1毫米 - 20毫米(可自訂)

    遊標卡尺/雷射粒度分析儀

    莫氏硬度

    ≥ 9.0

    莫氏硬度測試套裝

    維氏硬度(HV)

    ≥ 1250

    維氏硬度計

    磨損率

    實驗室規模振動拋光試驗

    表面粗糙度(Ra)

    ≤ 0.01 μm

    原子力顯微鏡(AFM)

    抗壓強度

    ≥ 2300 兆帕

    萬能試驗機

    化學穩定性

    耐受 pH 值 2-13 的溶液;不與有機溶劑反應

    浸泡試驗(24小時,25℃)

    球形

    ≥ 0.98

    光學球面儀

    顏色

    珍珠白

    目視檢查

     

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